一種靶材冷卻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721848656.4 申請日 -
公開（公告）號 CN208104526U 公開（公告）日 2018-11-16
申請公布號 CN208104526U 申請公布日 2018-11-16
分類號 C23C14/32 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 嚴佐毅;劉文卿;張龍;張麗 申請（專利權(quán)）人 深圳金美新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 北京挺立專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李鑫
地址 安徽省淮南市壽縣新橋國際產(chǎn)業(yè)園新橋大道東側(cè)幸福大道北側(cè)創(chuàng)凱科技園內(nèi)3號研發(fā)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及磁控濺射領(lǐng)域，主要涉及一種靶材冷卻裝置，包括靶材和冷卻靶座，所述冷卻靶座包括冷卻腔，所述冷卻腔上壁為冷卻背板用于放置所述靶材，所述冷卻腔兩端分別設(shè)置有冷卻介質(zhì)入口和冷卻介質(zhì)出口，所述冷卻腔內(nèi)上下壁設(shè)有若干彼此交錯且間隔設(shè)置的導流板，使所述冷卻腔內(nèi)部空間形成曲折連通的冷卻介質(zhì)流道，這種結(jié)構(gòu)的冷卻靶座可以提高冷卻背板的換熱面積，同時在來回曲折的流動過程中，冷卻介質(zhì)湍動程度大幅提高，強化冷卻介質(zhì)與靶座之間的傳熱，從而急速降低靶材底座的溫度。