一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201811519640.8 申請日 -
公開（公告）號 CN109402598A 公開（公告）日 2019-03-01
申請公布號 CN109402598A 申請公布日 2019-03-01
分類號 C23C14/56 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 嚴佐毅;劉文卿 申請（專利權(quán)）人 深圳金美新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 北京挺立專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 葉樹明
地址 232200 安徽省淮南市壽縣新橋國際產(chǎn)業(yè)園新橋大道東側(cè)幸福大道北側(cè)創(chuàng)凱科技園內(nèi)3號研發(fā)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種雙面往返連續(xù)真空鍍膜設(shè)備，包括真空腔體，所述真空腔體內(nèi)設(shè)置有上收放卷機構(gòu)、上傳送機構(gòu)、下傳送機構(gòu)及下收放卷機構(gòu)；所述下收放卷機構(gòu)及下傳送機構(gòu)分別位于上收放卷機構(gòu)及上傳送機構(gòu)的下方，待鍍膜材料從上或下收放卷機構(gòu)開始依次經(jīng)過上或下傳送機構(gòu)、下或上傳送機構(gòu)后回到下或上收放卷機構(gòu)；與所述上傳送機構(gòu)及下傳送機構(gòu)處的待鍍膜材料對應(yīng)的位置處均設(shè)置有一套鍍膜裝置。本發(fā)明通過設(shè)置上下兩個收放卷機構(gòu)以及上下兩個鍍膜裝置，能夠在真空腔體內(nèi)實現(xiàn)連續(xù)往返鍍膜，極大地提高了工作效率。