卷繞式雙面磁控濺射真空鍍膜設(shè)備
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201821266368.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN208667836U | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-03-29 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN208667836U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-03-29 |
分類號(hào) | C23C14/35(2006.01)I; C23C14/56(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 嚴(yán)佐毅; 劉文卿 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳金美新材料科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京挺立專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 葉樹(shù)明 |
地址 | 安徽省淮南市壽縣新橋國(guó)際產(chǎn)業(yè)園新橋大道東側(cè)幸福大道北側(cè)創(chuàng)凱科技園內(nèi)3號(hào)研發(fā)樓 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型公開(kāi)了卷繞式雙面磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,其包括真空腔體以及設(shè)置在所述真空腔體內(nèi)放卷機(jī)構(gòu)、收卷機(jī)構(gòu)、冷卻主鼓、放卷擺架和收卷擺架;所述放卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)上下設(shè)置,所述放卷擺架和放卷機(jī)構(gòu)連接,所述收卷擺架和收卷機(jī)構(gòu)連接,所述冷卻主鼓設(shè)置兩個(gè),均位于放卷機(jī)構(gòu)和收卷機(jī)構(gòu)之間且左右相對(duì)設(shè)置;卷料經(jīng)放卷機(jī)構(gòu)、放卷擺架后通過(guò)其中一個(gè)冷卻主鼓實(shí)現(xiàn)一面的鍍膜,再經(jīng)另外一個(gè)冷卻主鼓實(shí)現(xiàn)另外一面的鍍膜,之后經(jīng)收卷擺架和收卷機(jī)構(gòu)進(jìn)行收卷,實(shí)現(xiàn)一次性在薄膜兩面同時(shí)鍍上鍍層。 |
