一種靶材冷卻裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201721851177.8 申請日 -
公開（公告）號 CN208104529U 公開（公告）日 2018-11-16
申請公布號 CN208104529U 申請公布日 2018-11-16
分類號 C23C14/34 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 劉文卿;嚴佐毅;張龍;張麗 申請（專利權(quán)）人 深圳金美新材料科技有限公司
代理機構(gòu) 北京挺立專利事務(wù)所（普通合伙） 代理人 李鑫
地址 安徽省淮南市壽縣新橋國際產(chǎn)業(yè)園新橋大道東側(cè)幸福大道北側(cè)創(chuàng)凱科技園內(nèi)3號研發(fā)樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型屬于濺射靶材領(lǐng)域，具體來說涉及一種靶材冷卻裝置，包括靶材、靶材余料，所述靶材與所述靶材余料為一整體，所述靶材余料上設(shè)置有若干冷媒通道；本實用新型簡易方便，能夠在不增加成本的基礎(chǔ)上直接對靶材進行冷卻，大大降低靶材溫度，提高傳熱效率，并且能夠更加均勻的冷卻靶材，提高沉積薄膜的性能。