一種下沉式還原爐噴嘴

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202021036902.8 申請日 -
公開（公告）號 CN212504016U 公開（公告）日 2021-02-09
申請公布號 CN212504016U 申請公布日 2021-02-09
分類號 C01B33/035(2006.01)I 分類 無機化學;
發(fā)明人 盛斌;李子林;王絲雨 申請（專利權）人 江蘇雙良新能源裝備有限公司
代理機構 江陰市揚子專利代理事務所（普通合伙） 代理人 隋玲玲
地址 214444江蘇省無錫市江陰市臨港街道西利路115號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及一種下沉式還原爐噴嘴，屬于多晶硅生產(chǎn)技術領域。它包括底盤（1）和進料噴嘴（2），所述底盤（1）為中空結構，空腔內(nèi)設置有冷卻水，所述底盤（1）上還匹配進料噴嘴（2）的位置設置有孔結構，所述孔結構匹配進料噴嘴（2）的長度，在下部設置螺紋，上部為光孔結構，所述進料噴嘴（2）下部配合設置噴嘴螺紋（3），上端為光桿結構，并與光孔結構間隙配合；所述進料噴嘴（2）內(nèi)還設置有中心通孔（4）。本實用新型大幅降低了混合氣體對噴嘴金屬的高溫燒蝕，從而降低多晶硅“體金屬”雜質，提升多晶硅品質；另外連接螺紋完全浸沒在冷卻區(qū)域內(nèi)，避免了螺紋高溫變形，方便噴嘴拆裝、清洗。??