脈沖激光沉積加熱器

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921819387.8 申請日 -
公開(公告)號 CN211152225U 公開(公告)日 2020-07-31
申請公布號 CN211152225U 申請公布日 2020-07-31
分類號 H05B3/03(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 張曉軍;朱新華;胡凱;代瑞娜 申請(專利權(quán))人 深圳市矩陣多元科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市華優(yōu)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 代理人 余薇
地址 518000廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道朗山路28號通產(chǎn)新興產(chǎn)業(yè)園3號廠房1樓北側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及脈沖激光沉積技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種脈沖激光沉積加熱器。所述脈沖激光沉積加熱器,包括上蓋、下蓋和所述上蓋和下蓋連接形成的加熱倉,還包括加熱內(nèi)核、加熱絲、焊料部、加熱電極,所述加熱絲一部分埋入在所述加熱內(nèi)核底部焊料部內(nèi),另一部分纏繞在加熱內(nèi)核側(cè)面,所述加熱絲包括內(nèi)層加熱芯、中間氧化層和外層保護(hù)層,所述加熱電極設(shè)置在所述加熱倉外部且與所述加熱絲電氣連接。本方案通過三層結(jié)構(gòu)的加熱絲提升了加熱器的抗氧化性能,延長了加熱器的使用壽命,同時通過在加熱內(nèi)核側(cè)面纏繞加熱絲并在加熱內(nèi)核底部通過焊接埋入加熱絲,使加熱接觸更加充分、加熱溫度更加均勻,提升了加熱器的加熱溫度、加熱均勻性和穩(wěn)定性。??