石英掩膜結(jié)構(gòu)體

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821909824.0 申請日 -
公開（公告）號 CN209412300U 公開（公告）日 2019-09-20
申請公布號 CN209412300U 申請公布日 2019-09-20
分類號 C23C14/04（2006.01）I; C23C16/04（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 代瑞娜; 張曉軍; 李炳坤; 胡凱; 陳志強(qiáng); 方安安; 姜鷺; 潘恒; 王巖; 王峻嶺 申請（專利權(quán)）人 深圳市矩陣多元科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳市華優(yōu)知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 余薇
地址 518000 廣東省深圳市南山區(qū)西麗街道朗山路28號通產(chǎn)新興產(chǎn)業(yè)園3號廠房1樓北側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及薄膜加工技術(shù)領(lǐng)域，公開了一種石英掩膜結(jié)構(gòu)體。所述石英掩膜結(jié)構(gòu)體包括第一石英掩膜框、第二石英掩膜框以及石英掩膜板，所述第二石英掩膜框底部設(shè)置有收容所述石英掩膜板的凹槽，所述第一石英掩膜框設(shè)置有多個(gè)基底孔，所述第二石英掩膜框?qū)?yīng)設(shè)置有多個(gè)正對所述第一石英掩膜板的基底孔的鍍膜孔，用于通過脈沖激光對收容在所述基底孔內(nèi)的基底進(jìn)行鍍膜。本方案可批量對小面積的基底進(jìn)行鍍膜而生成小面積的薄膜材料，避免了現(xiàn)有掩膜板在薄膜生長時(shí)邊緣模糊效果和重影效果，同時(shí)也避免了現(xiàn)有沉積薄膜材料切割成小面積薄膜材料時(shí)容易被損壞和污染的情況，提升了薄膜制造的質(zhì)量、操作便捷性和工作效率。