一種減少蒸發(fā)鍍層的真空電子束冷床熔煉爐系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202111520689.7 申請日 -
公開（公告）號 CN114485166A 公開（公告）日 2022-05-13
申請公布號 CN114485166A 申請公布日 2022-05-13
分類號 F27B14/06（2006.01）I;F27B14/10（2006.01）I;F27B14/16（2006.01）I;C22B9/22（2006.01）I;C23C18/31（2006.01）I 分類 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 吳景暉;雷孝呂;杜全國;王秦超;吳棟;宋彥明;姚力軍 申請（專利權(quán)）人 寧波創(chuàng)潤新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海申新律師事務(wù)所 代理人 -
地址 315460浙江省寧波市余姚市臨山鎮(zhèn)臨浦村
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種真空電子束冷床熔煉爐系統(tǒng)，包括熔煉單元、真空抽氣單元和抽蒸發(fā)料單元；熔煉單元包括EB爐體，EB爐體中設(shè)置有鑄造坩堝和水平坩堝；真空抽氣單元包括擴(kuò)散泵，EB爐體與擴(kuò)散泵通過真空抽氣管道連通；抽蒸發(fā)料單元包括沉粉腔和擴(kuò)散泵，EB爐體與擴(kuò)散泵通過蒸發(fā)料抽除管道連通，蒸發(fā)料抽除管道的入口設(shè)置在水平坩堝的上方；蒸發(fā)料抽除管道包括多段，相鄰段的軸心方向不同，相鄰段的連接處的底部設(shè)置有沉粉腔。本發(fā)明中通過抽蒸發(fā)料單元的設(shè)置，對雜質(zhì)與原料蒸發(fā)產(chǎn)生的蒸發(fā)料進(jìn)行收集，大大減少EB爐體與蒸發(fā)料的接觸，大大減緩蒸發(fā)鍍層的形成速率。