一種中紅外雙波段帶通濾光片及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202010104444.5 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN111175874B | 公開(公告)日 | 2021-10-22 |
申請公布號 | CN111175874B | 申請公布日 | 2021-10-22 |
分類號 | G02B5/20(2006.01)I;C23C14/54(2006.01)I;C23C14/32(2006.01)I;C23C14/16(2006.01)I;C23C14/08(2006.01)I | 分類 | 光學; |
發(fā)明人 | 岳威;張闊;劉連澤;韓永昶 | 申請(專利權)人 | 北京華北萊茵光電技術有限公司 |
代理機構 | 北京天江律師事務所 | 代理人 | 任崇 |
地址 | 100020北京市朝陽區(qū)酒仙橋路2號院內(nèi)11所3號樓4層 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種中紅外雙波段帶通濾光片及其制備方法,一種中紅外雙波段帶通濾光片,包括基底和形成在基底兩側表面上的帶通濾光膜、負濾光膜;該濾光片的膜系結構為:8^(LH)9^(HL)|Si|(LH)^9(HL)^3H;其中,Sub為基底,L為SiO膜層,H為Ge膜層。一種中紅外雙波段帶通濾光片的制備方法,包括以下步驟:在基底上單面鍍制帶通濾光膜;在基底另一面鍍制負濾光膜。本發(fā)明主要針對3μm~5μm中紅外波段提供一種3.7-4.1μm以及4.55-4.8μm雙波段帶通濾波同時抑制4.26μm附近干擾能量的介質薄膜涂層,其本身具有高透射率、雙波段帶通、可靠性好,環(huán)境適應性強的特性。 |
