一種大面陣中波紅外雙視場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202010104569.8 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN111290103B 公開（公告）日 2021-11-23
申請(qǐng)公布號(hào) CN111290103B 申請(qǐng)公布日 2021-11-23
分類號(hào) G02B13/00（2006.01）I;G02B13/18（2006.01）I;G02B13/14（2006.01）I;G02B15/15（2006.01）I 分類 光學(xué);
發(fā)明人 孫浩;高益;于興;鄧巖 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 北京華北萊茵光電技術(shù)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京天江律師事務(wù)所 代理人 任崇
地址 100020北京市朝陽(yáng)區(qū)酒仙橋路2號(hào)院內(nèi)11所3號(hào)樓4層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種大面陣中波紅外雙視場(chǎng)光學(xué)系統(tǒng)，包括物鏡組、中繼組，物鏡組同軸設(shè)置于中繼組的前方；物鏡組包括第一透鏡、第二透鏡、第三透鏡、第四透鏡、第五透鏡且各透鏡從前到后依序同軸設(shè)置；中繼組包括第六透鏡、第七透鏡、第八透鏡、第九透鏡且各透鏡從前到后依序同軸設(shè)置；中繼組的后方同軸依序設(shè)置有探測(cè)器窗口、探測(cè)器濾光片，探測(cè)器濾光片用作光學(xué)系統(tǒng)光闌，探測(cè)器焦平面陣列位于探測(cè)器濾光片的后方且與其同軸。本發(fā)明提供了一款適配于2720×2720，像元尺寸15μm中波制冷型探測(cè)器的光學(xué)系統(tǒng)，本光學(xué)系統(tǒng)為成像器件提供了一個(gè)大像高，其像高值為φ57.7mm，同時(shí)滿足雙視場(chǎng)的高速切換，平均光譜透過率高。