連續(xù)均勻鍍膜的調(diào)節(jié)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910779665.X | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110373648B | 公開(公告)日 | 2021-06-04 |
申請公布號 | CN110373648B | 申請公布日 | 2021-06-04 |
分類號 | C23C14/54;C23C14/34 | 分類 | 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面化學處理;金屬材料的擴散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 方鳳軍;何建軍;崔繼文;李會社;杜圣峰 | 申請(專利權)人 | 宜昌南玻顯示器件有限公司 |
代理機構 | 宜昌市三峽專利事務所 | 代理人 | 成鋼 |
地址 | 443000 湖北省宜昌市自貿(mào)區(qū)宜昌片區(qū)發(fā)展大道57-5號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 一種連續(xù)均勻鍍膜的調(diào)節(jié)方法,通過光度計、橢偏儀或臺階儀測試當前玻璃上各位置的膜層厚度,進而掌握膜厚變化規(guī)律;在旋轉陰極的A管與CM3腔室邊緣處,加裝光電感應器;光電感應器與控制器電連接,控制器與旋轉陰極電連接;當鍍膜框架KJ1到達光電感應器的位置時,計時器計時“0”秒,根據(jù)掌握的膜厚變化規(guī)律,降低或升高A管的轉速r;降低轉速r會降低濺射率s,從而降低鍍膜厚度,升高轉速r會增加濺射率s,從而增加鍍膜厚度;實現(xiàn)行進方向膜厚均勻性的精細調(diào)節(jié)。 |
