一種倒裝LED芯片結(jié)構(gòu)及其制造方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201410425677.X | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN105449069B | 公開(公告)日 | 2018-06-29 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN105449069B | 申請(qǐng)公布日 | 2018-06-29 |
分類號(hào) | H01L33/38;H01L33/44;H01L33/62 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 劉英策;胡紅坡 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 廣東量晶光電科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京慕達(dá)星云知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) | 代理人 | 廣東量晶光電科技有限公司 |
地址 | 528251 廣東省佛山市南海區(qū)平洲金谷光電社區(qū)A座一、二樓廠房 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N倒裝LED芯片結(jié)構(gòu)及其制作方法,其中該方法包括:步驟1,依次布置襯底、緩沖層、N型層、發(fā)光層和P型歐姆接觸層;步驟2,通過刻蝕形成芯片隔離區(qū);步驟3,在芯片兩側(cè)邊緣對(duì)稱分別形成N型電極形成區(qū);步驟4,在P型歐姆接觸層之上形成擴(kuò)散反射層,在隔離區(qū)、N型電極形成區(qū)、擴(kuò)散發(fā)射層之上形成絕緣介質(zhì)膜層;步驟5、對(duì)N型電極型成區(qū)、擴(kuò)散反射層之上的絕緣介質(zhì)膜層形成N電極、P電極的窗口區(qū),并對(duì)絕緣介質(zhì)膜層形成山脊分離形狀;步驟6、制作形成P型電極和N型電極,焊接于PCB板上。 |
