一種清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010411894.9 申請日 -
公開（公告）號 CN111468464A 公開（公告）日 2020-07-31
申請公布號 CN111468464A 申請公布日 2020-07-31
分類號 B08B3/08(2006.01)I 分類 -
發(fā)明人 張廣雨;張慧 申請（專利權(quán)）人 北京亦盛精密半導體有限公司
代理機構(gòu) 北京東方芊悅知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 北京亦盛精密半導體有限公司
地址 100176北京市大興區(qū)北京經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)經(jīng)海二路28號8幢廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種清洗設(shè)備，包括清洗槽、位于清洗槽內(nèi)部的底盤、位于底盤正上方的超聲波清洗器、過濾罐、第一閥門、第二閥門、位于過濾罐上方的硬管，底盤與清洗槽的槽底之間安裝有多個支撐板，超聲波清洗器的下部設(shè)置有槽口朝下設(shè)置的超聲波清洗槽，超聲波清洗槽的槽底中央設(shè)置有第一貫穿孔，超聲波清洗器的上部安裝有與第一貫穿孔相連通的管接頭，硬管與管接頭之間設(shè)置有軟管，過濾罐包括罐體、設(shè)置在罐體內(nèi)部的濾芯、安裝在罐體灌口處的罐蓋。該清洗設(shè)備的操作簡單，清洗方便，能夠有效對硅電極在小孔加工過程中形成的半成品進行徹底清洗，避免硅泥等雜質(zhì)滯留在小孔內(nèi)壁。??