石墨盤(pán)的清洗方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110649489.5 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)（公告）號(hào) CN113333374A 公開(kāi)（公告）日 2021-09-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN113333374A 申請(qǐng)公布日 2021-09-03
分類號(hào) B08B3/08（2006.01）I;B08B3/02（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I;B08B3/12（2006.01）I;F26B21/00（2006.01）I;F26B25/06（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 高默然;虞鑫達(dá);鄭錦堅(jiān);畢京鋒;操曉敏;范偉宏;鄔元杰;張成軍;曾家明;房延振 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 杭州士蘭明芯科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 上海思捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 劉暢
地址 361012福建省廈門(mén)市海滄區(qū)蘭英路99號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提供了一種石墨盤(pán)的清洗方法，包括：提供一石墨盤(pán)，所述石墨盤(pán)的表面具有待去除的沉積物，所述沉積物包括高Al組分的化合物；以及，采用堿性溶液清洗、Cl2氛圍下高溫烘烤、HCl氛圍下高溫烘烤以及H2氛圍下高溫烘烤的方法中的至少兩種去除所述沉積物。本發(fā)明的技術(shù)方案能夠有效去除石墨盤(pán)表面的包括高Al組分的化合物的沉積物，避免影響后續(xù)生長(zhǎng)的外延質(zhì)量，進(jìn)而避免影響發(fā)光二極管的性能。