一種垂直腔面發(fā)射激光器的外延結(jié)構(gòu)
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202120500244.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN214589685U | 公開(公告)日 | 2021-11-02 |
申請公布號 | CN214589685U | 申請公布日 | 2021-11-02 |
分類號 | H01S5/183(2006.01)I;H01S5/343(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 薛婷 | 申請(專利權(quán))人 | 福建慧芯激光科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 泉州市文華專利代理有限公司 | 代理人 | 陳云川 |
地址 | 362100福建省泉州市惠安縣螺陽鎮(zhèn)城南工業(yè)區(qū)站前路19號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實用新型涉及一種垂直腔面發(fā)射激光器的外延結(jié)構(gòu),包括砷化鎵襯底,砷化鎵襯底上依次沉積有砷化鎵緩沖層、N型摻雜的DBR、有源層、氧化限制層、P型摻雜的DBR和歐姆接觸層,所述有源層由依次設(shè)置的限制層、波導層和堆垛層、對稱波導層以及對稱限制層組成,所述堆垛層包括多個堆垛單元和設(shè)置在堆垛單元之間的第一砷化鎵層,所述堆垛單元包括依次設(shè)置在第二砷化鎵層、第一砷化銦鎵層、砷化銦量子點層以及第二砷化銦鎵層,所述第一砷化鎵層的厚度在50至100nm。本實用新型相比于有源區(qū)為量子阱的激光器,量子點激光器能獲得更低的閾值電流密度,更高的斜率效率、更高的調(diào)制速率等優(yōu)點。 |
