一種硅片加工用清洗機的石英槽晶片承載臺支撐底座裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202022377926.6 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN213026070U | 公開(公告)日 | 2021-04-20 |
申請公布號 | CN213026070U | 申請公布日 | 2021-04-20 |
分類號 | H01L21/673(2006.01)I;B08B13/00(2006.01)N;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 吳泓明;鐘佑生;陳志剛;周軍磊;張磊 | 申請(專利權)人 | 鄭州合晶硅材料有限公司 |
代理機構 | 鄭州聯(lián)科專利事務所(普通合伙) | 代理人 | 張曉萍 |
地址 | 450000河南省鄭州市航空港經濟綜合實驗區(qū)規(guī)劃工業(yè)四路以南、華夏大道以西 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請屬于半導體硅片加工技術領域,具體涉及一種硅片加工用清洗機的石英槽晶片承載臺支撐底座裝置。所述支撐底座裝置,其總體呈“V”形結構,設于石英槽底部,包括正向支撐底座和反向支撐底座兩個方向相反的支撐底座,并且相鄰兩個石英槽底部所設支撐底座裝置方向相反;正向支撐底座由通過兩端對稱設置的兩個連接桿連接的晶片撐桿A、中央撐桿和晶片撐桿B構成;反向支撐底座,由通過兩端對稱設置的兩個連接桿連接的晶片撐桿B、中央撐桿和晶片撐桿A構成。本申請所提供的承載臺支撐底座,結構設計巧妙,通過調整晶片與支撐底座接觸位點變化,從而確保晶片與化學液的充分和全面接觸,對于提高清洗良率起到了較好保障作用。?? |
