一種真空腔旋轉角度異常的校正裝置及方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202010068508.0 申請日 -
公開（公告）號 CN111235543B 公開（公告）日 2022-03-15
申請公布號 CN111235543B 申請公布日 2022-03-15
分類號 C23C14/54（2006.01）I;G01B11/26（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 趙俊峰 申請（專利權）人 南京京東方顯示技術有限公司
代理機構 北京銀龍知識產(chǎn)權代理有限公司 代理人 許靜
地址 210033 江蘇省南京市棲霞區(qū)天佑路7號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種真空腔旋轉角度異常的校正裝置，包括設置在真空腔分隔壁的信號接收端、設置在制程腔分隔壁的與信號接收端對應的信號發(fā)射端以及旋轉盤，旋轉盤表面設有指針和刻度，指針與真空腔的旋轉軸相連接，旋轉盤內(nèi)部設有位置感應器，位置感應器用于記錄真空腔的旋轉數(shù)據(jù)并根據(jù)旋轉數(shù)據(jù)判斷真空腔的旋轉方向；當異常斷電時，操作人員根據(jù)真空腔的旋轉方向將真空腔向旋轉盤上刻度為0度或180度的方向旋轉，直至信號發(fā)射端發(fā)出的信號被對應的信號接收端接收時停止操作。本發(fā)明簡化真空腔旋轉角度異常的校正流程，減少此異常的處理時間，保證設備高稼動率。