利用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)制備鋰電池C?Si負(fù)極涂層的方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201610630926.8 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN106119795A | 公開(kāi)(公告)日 | 2016-11-16 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN106119795A | 申請(qǐng)公布日 | 2016-11-16 |
分類(lèi)號(hào) | C23C14/35(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/58(2006.01)I;C23C14/02(2006.01)I | 分類(lèi) | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 趙斌 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 深圳市第四能源科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 518000 廣東省深圳市福田區(qū)福田街道濱河大道5022號(hào)聯(lián)合廣場(chǎng)A座2608室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)一種利用真空磁控濺射鍍膜技術(shù)制備鋰電池C?Si負(fù)極涂層的方法,該方法是將負(fù)極基材安裝到極片架上;開(kāi)啟連續(xù)式真空磁控濺射鍍膜設(shè)備,調(diào)整設(shè)備至可鍍膜工藝條件;投入待鍍膜基片架?銅箔;離子源等離子轟擊剝離銅箔表面氧化層、去除表面尖峰;直流濺鍍C?Si膜;加熱退火處理;出料后特性檢查;本發(fā)明通過(guò)磁控濺射真空鍍膜技術(shù)在鋰電池負(fù)極銅箔上沉積一層C?Si復(fù)合負(fù)極薄膜,以提高負(fù)極電極電性能。 |
