一種用于管狀靶材的真空燒結(jié)系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202210265521.4 申請日 -
公開（公告）號 CN114623679A 公開（公告）日 2022-06-14
申請公布號 CN114623679A 申請公布日 2022-06-14
分類號 F27B5/04（2006.01）I;F27B5/14（2006.01）I;F27B5/18（2006.01）I;F27D7/06（2006.01）I 分類 爐；窯；烘烤爐；蒸餾爐〔4〕;
發(fā)明人 唐智勇 申請（專利權(quán)）人 株洲火炬安泰新材料有限公司
代理機(jī)構(gòu) 湖南正則奇美專利代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 -
地址 410000湖南省株洲市天元區(qū)天易科技城自主創(chuàng)業(yè)園一期A5棟
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種用于管狀靶材的真空燒結(jié)系統(tǒng)，第一壓蓋設(shè)置有第一模具，第二壓蓋設(shè)置有第二模具，第一模具與第二模具配合用于成型，第一保溫殼與第二保溫殼形成的加熱腔內(nèi)設(shè)置有加熱裝置；第一壓蓋設(shè)置在機(jī)架上，第二壓蓋固定連接在加壓裝置的輸出端，加壓裝置固定連接在機(jī)架上；加壓裝置包括恒壓裝置和反饋裝置，恒壓裝置用于提供穩(wěn)定壓力，反饋裝置用于提供附加壓力；通過反饋系統(tǒng)以位置為依據(jù)，當(dāng)?shù)谝荒＞咧饾u靠近第二模具時(shí)，反饋裝置提供的附加壓力逐漸變大，使素坯所受壓力在燒結(jié)過程為逐漸變大，較小的初始力避免過早得出較大的晶粒，靶材燒結(jié)過程中各部位的累積受力的差異縮小，從而使各部位的晶粒的大小趨于均勻。