掩膜板
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202122436360.4 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN216107160U | 公開(公告)日 | 2022-03-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN216107160U | 申請(qǐng)公布日 | 2022-03-22 |
分類號(hào) | C23C14/04(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I | 分類 | 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面化學(xué)處理;金屬材料的擴(kuò)散處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆;金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕; |
發(fā)明人 | 李世泰;趙瑩;李慧;劉明星 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 合肥維信諾科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京華進(jìn)京聯(lián)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 金偉英 |
地址 | 230000安徽省合肥市新站區(qū)魏武路與新蚌埠路交口西南角 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本實(shí)用新型涉及一種掩膜板,包括掩膜本體,掩膜本體具有蒸鍍面和背面;掩膜板本體上設(shè)置有貫穿其的蒸鍍孔;蒸鍍孔包括貫穿蒸鍍面的第一蒸鍍孔,以及與第一蒸鍍孔連通且貫穿背面的第二蒸鍍孔;第二蒸鍍孔的內(nèi)壁從靠近背面的一端向遠(yuǎn)離背面的另一端逐漸收攏;掩膜本體還包括設(shè)置于背面的下沉槽,下沉槽與至少部分第二蒸鍍孔一一對(duì)應(yīng),且圍繞第二蒸鍍孔設(shè)置以連通第二蒸鍍孔;第二蒸鍍孔的內(nèi)壁所在圓弧面與背面相交且形成第一夾角,第二蒸鍍孔的內(nèi)壁與下沉槽的底壁相交設(shè)置且形成第二夾角;第一夾角小于第二夾角。上述掩膜板,第二蒸鍍孔的孔壁與背面的過(guò)渡更加平緩,從而降低了支撐柱被掩膜板刮傷的風(fēng)險(xiǎn)。 |
