一種稀釋劑回收處理高位槽

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202120662750.0 申請日 -
公開（公告）號 CN214598909U 公開（公告）日 2021-11-05
申請公布號 CN214598909U 申請公布日 2021-11-05
分類號 B01J4/00（2006.01）I;B08B3/10（2006.01）I 分類 一般的物理或化學的方法或裝置;
發(fā)明人 倪進娟;徐鎮(zhèn) 申請（專利權）人 合肥茂騰環(huán)?？萍加邢薰?/a>
代理機構 合肥鴻知運知識產權代理事務所（普通合伙） 代理人 王金良
地址 230000安徽省合肥市新站區(qū)九頂山路以西珠城路以北
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型涉及高位槽技術領域，且公開了一種稀釋劑回收處理高位槽，包括底座平臺、升降平臺、高位槽；所述升降平臺安裝在底座平臺上，所述高位槽安裝在升降平臺的頂端；所述高位槽的底端設有排液口，所述高位槽的頂端分別安裝有排汽口、注油口和清洗口，所述高位槽的一側安裝有攪拌機構和排水口，所述高位槽的另一側安裝有液位計。該稀釋劑回收處理高位槽，利用升降平臺調節(jié)高位槽的高度，而底座平臺可安裝導熱油加熱系統(tǒng)中的一些設備，并根據(jù)導熱油加熱系統(tǒng)的最高點調節(jié)升降平臺，使得高位槽底部與導熱油加熱系統(tǒng)的最高點保持.m的高度，從而使高位槽正常工作。