圖像傳感器的形成方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201910721462.5 申請日 -
公開（公告）號(hào) CN110379828B 公開（公告）日 2021-09-14
申請公布號(hào) CN110379828B 申請公布日 2021-09-14
分類號(hào) H01L27/146 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 阿久津良宏 申請（專利權(quán)）人 德淮半導(dǎo)體有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 徐文欣
地址 223302 江蘇省淮安市淮陰區(qū)長江東路599號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 一種圖像傳感器的形成方法，包括：提供襯底，所述襯底包括相對的第一面和第二面，所述襯底包括若干感光區(qū)以及位于相鄰感光區(qū)之間的隔離區(qū)；在所述隔離區(qū)內(nèi)形成溝槽，所述溝槽內(nèi)具有隔離結(jié)構(gòu)，所述隔離結(jié)構(gòu)的頂部表面低于所述襯底第二面表面；在所述隔離結(jié)構(gòu)表面以及所述襯底第二面表面形成柵格材料層，位于所述隔離區(qū)表面和隔離結(jié)構(gòu)表面的部分柵格材料層內(nèi)具有第一凹槽；在所述第一凹槽內(nèi)形成掩膜結(jié)構(gòu)；以所述掩膜結(jié)構(gòu)為掩膜刻蝕所述柵格材料層，在所述隔離區(qū)第二面表面形成柵格結(jié)構(gòu)。所述圖像傳感器的性能得到提升。