研磨裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201920511139.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN209868177U | 公開(kāi)（公告）日 | 2019-12-31 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN209868177U | 申請(qǐng)公布日 | 2019-12-31 |
| 分類(lèi)號(hào) | B24B9/08;B24B27/00;B24B41/04;B24B47/12 | 分類(lèi) | 磨削；拋光; |
| 發(fā)明人 | 王劍波;陳發(fā)偉 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 四川虹基光玻新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京潤(rùn)平知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 李健;蔣愛(ài)花 |
| 地址 | 050035 河北省石家莊市高新區(qū)黃河大道9號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型涉及待研磨體研磨技術(shù)領(lǐng)域，公開(kāi)一種研磨裝置，研磨裝置包括：研磨結(jié)構(gòu)包括研磨盤(pán)面相對(duì)布置并間隔設(shè)置的第一研磨轉(zhuǎn)盤(pán)和第二研磨轉(zhuǎn)盤(pán)；待研磨體保持結(jié)構(gòu)包括多個(gè)用于設(shè)置待研磨體的待研磨體保持單元；多個(gè)待研磨體保持單元沿著研磨盤(pán)面的周向方向布置在第一研磨轉(zhuǎn)盤(pán)的研磨盤(pán)面和第二研磨轉(zhuǎn)盤(pán)的研磨盤(pán)面之間，以使得保持在多個(gè)待研磨體保持單元上的待研磨體的相對(duì)兩端能夠分別通過(guò)第一研磨轉(zhuǎn)盤(pán)和第二研磨轉(zhuǎn)盤(pán)的研磨盤(pán)面研磨。大量的待研磨體比如曲面玻璃的玻璃毛坯分別固定裝配在多個(gè)待研磨體保持單元上，兩個(gè)研磨轉(zhuǎn)盤(pán)旋轉(zhuǎn)時(shí)，兩個(gè)研磨轉(zhuǎn)盤(pán)的研磨盤(pán)面即可同時(shí)對(duì)大量的待研磨體的相對(duì)的兩端邊進(jìn)行研磨，從而提升了研磨效率。 |
