制備鈣鈦礦吸收層的設(shè)備和方法及其應(yīng)用

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110725392.8 申請日 -
公開（公告）號 CN113451516A 公開（公告）日 2021-09-28
申請公布號 CN113451516A 申請公布日 2021-09-28
分類號 H01L51/48（2006.01）I;H01L51/42（2006.01）I;C23C14/06（2006.01）I;C23C14/12（2006.01）I;C23C14/24（2006.01）I;C30B23/00（2006.01）I;C30B29/12（2006.01）I;C30B29/54（2006.01）I 分類 基本電氣元件;
發(fā)明人 李明潔;王雪戈;吳俊杰;邵君;于振瑞 申請（專利權(quán)）人 極電光能有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 趙麗婷
地址 214101江蘇省無錫市錫山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)東部園區(qū)大成路1098
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了制備鈣鈦礦吸收層的設(shè)備和方法及其應(yīng)用，制備鈣鈦礦吸收層的設(shè)備包括：無機(jī)腔室、沉積腔室和有機(jī)腔室，所述無機(jī)腔室上設(shè)有第一進(jìn)氣口和第一壓力調(diào)節(jié)口，所述無機(jī)腔室內(nèi)設(shè)有第一蒸發(fā)舟，所述第一蒸發(fā)舟上盛放無機(jī)前驅(qū)物；所述沉積腔室與所述無機(jī)腔室連通，所述沉積腔室與所述無機(jī)腔室的連接處設(shè)有第一閥門，所述沉積腔室內(nèi)設(shè)有基底載臺(tái)，所述基底載臺(tái)上方設(shè)有可轉(zhuǎn)動(dòng)地?fù)醢?，所述基底載臺(tái)的傾角可調(diào)，并且所述沉積腔室上設(shè)有排氣口；所述有機(jī)腔室與所述沉積腔室連通，所述有機(jī)腔室與所述沉積腔室的連接處設(shè)有第二閥門，所述有機(jī)腔室上設(shè)有第二進(jìn)氣口和第二壓力調(diào)節(jié)口，所述有機(jī)腔室內(nèi)設(shè)有第二蒸發(fā)舟，所述第二蒸發(fā)舟上盛放有機(jī)前驅(qū)物。