涂布設(shè)備及利用該設(shè)備制備鈣鈦礦吸光薄膜的方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110735530.0 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113457917A 公開（公告）日 2021-10-01
申請(qǐng)公布號(hào) CN113457917A 申請(qǐng)公布日 2021-10-01
分類號(hào) B05C5/02（2006.01）I;B05C9/12（2006.01）I;B05C9/14（2006.01）I;B05C11/02（2006.01）I;B05C11/04（2006.01）I;B05D1/26（2006.01）I;B05D3/04（2006.01）I;H01L51/48（2006.01）I;H01L51/42（2006.01）I 分類 一般噴射或霧化；對(duì)表面涂覆液體或其他流體的一般方法〔2〕;
發(fā)明人 鎖真陽;王雪戈;邵君;于振瑞 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 極電光能有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京清亦華知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 孫立波
地址 214101江蘇省無錫市錫山經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)東部園區(qū)大成路1098
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種涂布設(shè)備及利用該設(shè)備制備鈣鈦礦吸光薄膜的方法，所述涂布制備包括：供液組件、注液組件和刮涂組件，所述供液組件中盛放有待成膜溶液；所述注液組件設(shè)在基板的上方且與所述供液組件相連，并且所述注液組件可沿所述基板的長(zhǎng)度方向移動(dòng)，所述注液組件的下端設(shè)有線狀狹縫，所述線狀狹縫沿所述基板的寬度方向延伸；所述刮涂組件與所述注液組件相連且位于所述注液組件的下游。采用該涂布設(shè)備，可以解決現(xiàn)有刮涂技術(shù)由于不能動(dòng)態(tài)補(bǔ)液導(dǎo)致的液膜厚度越來越薄的問題，并且可以消除液膜中可能存在的氣泡或其他缺陷，使得液膜厚度更加均勻，從而為工業(yè)化規(guī)模制造鈣鈦礦吸光薄膜提供了有力的技術(shù)支持。