一種TFT電路基板生產(chǎn)工藝
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202110256108.7 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN113056093A | 公開(公告)日 | 2021-06-29 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN113056093A | 申請(qǐng)公布日 | 2021-06-29 |
分類號(hào) | H05K1/03;H05K3/00;H05K3/18 | 分類 | 其他類目不包含的電技術(shù); |
發(fā)明人 | 王鶴杰;王鶴堯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 深圳市昱安旭瓷電子科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 深圳市新虹光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 劉菊美 |
地址 | 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)沙井街道蠔一崗頭工業(yè)區(qū)涌南路84號(hào)A1棟二層B區(qū) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及電路基板生產(chǎn)的技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種TFT電路基板生產(chǎn)工藝,包括以下步驟:選取基材,基材為玻璃或者陶瓷制成;對(duì)基材進(jìn)行表面處理,通過(guò)真空濺射的方法在基材的表面濺射一層過(guò)渡金屬薄層;在過(guò)渡金屬薄層的表面貼設(shè)高分辨率的曝光干膜,通過(guò)曝光機(jī)在基材上曝光出陰文線路圖形;通過(guò)脈沖電鍍?cè)诨纳想婂兂鲭娐穲D形,去掉曝光干膜、去除真空濺射形成的過(guò)渡金屬薄層,對(duì)基材上的電路表面進(jìn)行沉金或其他保護(hù)處理;將基材激光切割出需要的尺寸得到成品;通過(guò)選用尺寸穩(wěn)定性好的玻璃或陶瓷材料制成的基材,同時(shí)采用真空濺射的方法制作電路圖形,圖形精度高,使用玻璃或陶瓷作為基材,可有效散發(fā)產(chǎn)品長(zhǎng)期工作產(chǎn)生的熱量,延長(zhǎng)產(chǎn)品使用壽命。 |
