一種IGBT結(jié)構(gòu)及其制作方法
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201310087246.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN103839994B | 公開(kāi)(公告)日 | 2019-03-22 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN103839994B | 申請(qǐng)公布日 | 2019-03-22 |
分類(lèi)號(hào) | H01L29/739(2006.01)I; H01L21/331(2006.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 胡愛(ài)斌; 朱陽(yáng)軍; 盧爍今; 王波; 陸江; 吳振興; 田曉麗; 趙佳 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 上海聯(lián)星電子有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京華沛德權(quán)律師事務(wù)所 | 代理人 | 劉麗君 |
地址 | 200120 上海市浦東新區(qū)金橋路939號(hào)宏南投資大廈1513室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種IGBT結(jié)構(gòu)及其制作方法,屬于半導(dǎo)體功率器件。該結(jié)構(gòu)從背面到正面依次包括,P+集電極,N+緩沖層、N?基底、P+基區(qū)、柵極和發(fā)射極;其中,P+集電極位于IGBT器件的底部,N+緩沖層包括第一緩沖層、第二緩沖層和第三緩沖層,P+型集電極到N?基底之間依次有第三緩沖層、第二緩沖層和第一緩沖層。本發(fā)明可以對(duì)IGBT的正向?qū)▔航岛完P(guān)斷時(shí)間分別優(yōu)化,從而可以獲得更好的導(dǎo)通和關(guān)斷的折中曲線(xiàn),進(jìn)而可以?xún)?yōu)化IGBT的開(kāi)關(guān)特性。 |
