一種濃度梯度校準(zhǔn)芯片的制備方法及其校準(zhǔn)方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201910504594.2 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN110146477A | 公開(公告)日 | 2019-08-20 |
申請公布號 | CN110146477A | 申請公布日 | 2019-08-20 |
分類號 | G01N21/64 | 分類 | 測量;測試; |
發(fā)明人 | 吉鋒;張冠斌;安爽;鄭雙奇 | 申請(專利權(quán))人 | 成都博奧新景醫(yī)學(xué)科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 成都九鼎天元知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 成都博奧晶芯生物科技有限公司;成都博奧新景醫(yī)學(xué)科技有限公司 |
地址 | 611135 四川省成都市溫江區(qū)永寧鎮(zhèn)八一路北段88號 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種濃度梯度校準(zhǔn)芯片的制備方法,包括如下步驟:取含有反應(yīng)池的微流體芯片;用熒光納米材料配制形成混合液,并將該混合液按比例稀釋成不同的梯度濃度;將不同梯度濃度的混合液分別點制在各個反應(yīng)池內(nèi);經(jīng)點制完成的微流體芯片表面上覆膜形成校準(zhǔn)芯片;還公開了濃度梯度校準(zhǔn)芯片的校準(zhǔn)方法,包括:采集一組標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)和一組待測數(shù)據(jù);將標(biāo)準(zhǔn)數(shù)據(jù)與待測數(shù)據(jù)作線性擬合,計算兩組數(shù)據(jù)的線性相關(guān)系數(shù)R2和斜率K值,并判斷是否滿足線性相關(guān)系數(shù)R2>0.95,0.95<斜率K值<1.05,以最終完成校準(zhǔn),以達(dá)到對儀器熒光信號范圍校準(zhǔn)且校準(zhǔn)準(zhǔn)確性較高的目的,同時能夠提高校準(zhǔn)芯片的制備成品率,降低制備成本。 |
