一種在多根螺旋線表面磁控濺射均勻鍍銅的方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110419772.9 申請日 -
公開（公告）號 CN113186502A 公開（公告）日 2021-07-30
申請公布號 CN113186502A 申請公布日 2021-07-30
分類號 C23C14/35（2006.01）I;C23C14/14（2006.01）I;C23F1/44（2006.01）I;C23F1/08（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 唐中華;王雨;梁田;劉洋;岳賢寧 申請（專利權(quán)）人 南京三樂集團(tuán)有限公司
代理機(jī)構(gòu) 南京理工大學(xué)專利中心 代理人 封睿
地址 214400江蘇省南京市浦口區(qū)浦口經(jīng)濟(jì)開發(fā)區(qū)光明路5號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明提出了一種在多根螺旋線表面磁控濺射均勻鍍銅的方法，打開真空室的腔室蓋板，同時(shí)將多根螺旋線系于工件架上，將工件架置于鍍膜室內(nèi)，關(guān)閉鍍膜室，設(shè)定工件旋轉(zhuǎn)速率為10~50r/min；打開真空泵組，開啟加熱裝置；打開氬氣閥門調(diào)節(jié)進(jìn)氣量，調(diào)節(jié)主抽閥開度；調(diào)節(jié)工件偏壓為10~200V，并開啟濺射功率，電源功率調(diào)節(jié)至200~300W，進(jìn)行磁控濺射鍍銅作業(yè)；完成濺射鍍銅后，關(guān)閉濺射電源、偏壓、加熱電源，待鍍膜室溫度降低后，再關(guān)閉設(shè)備，讓鍍銅的螺旋線隨爐降溫；鍍膜室溫度降低至室溫后，取出工件。本發(fā)明能夠同時(shí)在多根螺旋線表面均勻沉積銅薄膜，提高螺旋線表面鍍銅的生產(chǎn)效率，彌補(bǔ)現(xiàn)有生產(chǎn)能力無法滿足行波管批量生產(chǎn)的不足。