一種外延材料結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)參數(shù)確定方法及計算機(jī)程序產(chǎn)品
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202010385227.8 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN111540420B | 公開（公告）日 | 2020-08-14 |
| 申請公布號 | CN111540420B | 申請公布日 | 2020-08-14 |
| 分類號 | G16C60/00(2019.01)I;G06N3/00(2006.01)I | 分類 | 物理 |
| 發(fā)明人 | 郭帥;馮巍;謝小剛 | 申請（專利權(quán)）人 | 新磊半導(dǎo)體科技（蘇州）股份有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京品源專利代理有限公司 | 代理人 | 新磊半導(dǎo)體科技（蘇州）有限公司 |
| 地址 | 215151江蘇省蘇州市高新區(qū)建林路666號出口加工區(qū)配套工業(yè)園28號廠房 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明提供一種外延材料結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)參數(shù)確定方法及計算機(jī)程序產(chǎn)品，涉及半導(dǎo)體測試技術(shù)領(lǐng)域。該方法包括：提供外延材料結(jié)構(gòu)的計劃結(jié)構(gòu)參數(shù)；提供外延材料結(jié)構(gòu)的XRD測試數(shù)據(jù)；根據(jù)預(yù)設(shè)擬合算法，對根據(jù)計劃結(jié)構(gòu)參數(shù)計算獲得的外延材料結(jié)構(gòu)的計劃XRD計算數(shù)據(jù)與XRD測試數(shù)據(jù)進(jìn)行擬合，從而獲得經(jīng)修正的計劃結(jié)構(gòu)參數(shù)；將經(jīng)修正的計劃結(jié)構(gòu)參數(shù)作為外延材料結(jié)構(gòu)的實(shí)際生長結(jié)構(gòu)參數(shù)。在采用預(yù)設(shè)擬合算法對計劃結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行修正操作時，通過進(jìn)行添加新的膜層、減少已有的膜層、修正組分和厚度的修正操作，使得可以對計劃結(jié)構(gòu)參數(shù)進(jìn)行全方位的修正，而不局限于僅僅對組分和厚度的修正，從而可以獲得實(shí)際生長結(jié)構(gòu)的更加準(zhǔn)確的結(jié)構(gòu)參數(shù)。?? |
