一種具有加熱罩的真空蒸鍍裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202123220691.0 申請日 -
公開（公告）號 CN216765029U 公開（公告）日 2022-06-17
申請公布號 CN216765029U 申請公布日 2022-06-17
分類號 C23C14/24（2006.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 熊志紅 申請（專利權(quán)）人 深圳仕上電子科技有限公司
代理機構(gòu) 廣東中禾共贏知識產(chǎn)權(quán)代理事務所（普通合伙） 代理人 -
地址 518000廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道新和社區(qū)暉信工業(yè)園B棟廠房1層2層、4層，C棟廠房1層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開了一種具有加熱罩的真空蒸鍍裝置，涉及真空蒸鍍技術(shù)領域，包括真空蒸鍍裝置本體和設置在真空蒸鍍裝置本體內(nèi)腔上端的加熱罩本體，真空蒸鍍裝置本體的下端設置有緩沖組件，操作者在安裝時，將固定底盤通過固定工具安裝在需要安裝的位置，安裝好后，將過渡厚塊的下端固定焊接在固定底盤上端均勻分布設置的彈簧柱的上端，將真空蒸鍍裝置的下端與過渡厚塊通過固定工具進行安裝或焊接，設置在固定底盤上端兩側(cè)的長桿會通過環(huán)繞圈將真空蒸鍍裝置的中部包裹起來，在真空蒸鍍裝置進行工作時，其本體產(chǎn)生的震動會通過彈簧柱的彈力作用緩沖掉部分，且環(huán)繞圈也可提高真空蒸鍍裝置日常安裝和工作中的安全性，進而提高真空蒸鍍裝置的使用壽命。