具有犧牲層的鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件及其制備方法以及清洗方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN202110356878.9 申請(qǐng)日 -
公開（公告）號(hào) CN113201718A 公開（公告）日 2021-08-03
申請(qǐng)公布號(hào) CN113201718A 申請(qǐng)公布日 2021-08-03
分類號(hào) C23C14/35;C23C14/08;C23G1/12;C23G1/10;C23G1/08;C23C14/56 分類 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 胡明珠;朱峰;熊志紅;陳明;楊春雷;彭燕君;武雙元 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 深圳仕上電子科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) 深圳中細(xì)軟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 田麗麗
地址 518000 廣東省深圳市寶安區(qū)福海街道新和社區(qū)暉信工業(yè)園B棟廠房1層2層、4層,C棟廠房1層
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明公開了一種具有犧牲層的鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件及其制備方法以及清洗方法，具有犧牲層的鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件，包括鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件和形成于所述鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件表面的犧牲層，所述犧牲層的材料為ZnO，所述犧牲層在清洗過(guò)程中被去除。對(duì)被雜質(zhì)層污染后的所述具有犧牲層的鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件用酸清洗劑進(jìn)行清洗，所述清洗過(guò)程中，所述雜質(zhì)層和所述犧牲層均被去除，得到清洗后的鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件。本發(fā)明的清洗方法付不僅能夠清除掉雜質(zhì)層，同時(shí)不傷害原有鍍腔內(nèi)壁構(gòu)件。