一種激光熔覆噴嘴及激光熔覆設備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202122112526.7 申請日 -
公開（公告）號 CN215668210U 公開（公告）日 2022-01-28
申請公布號 CN215668210U 申請公布日 2022-01-28
分類號 C23C24/10（2006.01）I;B22F12/53（2021.01）I;B22F12/00（2021.01）I;B22F10/25（2021.01）I;B33Y30/00（2015.01）I 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陶鳴;張祥根 申請（專利權）人 南京輝銳光電科技有限公司
代理機構 北京知迪知識產權代理有限公司 代理人 王勝利
地址 211100江蘇省南京市江寧區(qū)湖熟街道瑞鑫路1號智能制造創(chuàng)新產業(yè)園2號廠房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實用新型公開一種激光熔覆噴嘴及激光熔覆設備，涉及激光熔覆技術領域，用于在有效降低激光熔覆噴嘴工作溫度的情況下，節(jié)約噴嘴及激光熔覆的使用成本。激光熔覆噴嘴包括外筒體、端蓋和內筒體。外筒體具有貫通的第一腔體，外筒體上開設有至少兩個送粉孔和至少兩個通水孔。端蓋密封的套設在外筒體靠近激光熔覆噴嘴出口的一端，端蓋與外筒體之間具有容置腔，通水孔與容置腔連通。內筒體具有相對的第一端和第二端，內筒體自第一端向第二端貫通，第一端容置在第一腔體內。第一端與外筒體之間具有通粉腔，通粉腔與送粉孔連通。本實用新型還提供了一種激光熔覆設備包括送粉器、激光熔覆噴嘴和上述技術方案所述的激光熔覆噴嘴。