一種近紅外LED外延結(jié)構(gòu)制作方法及外延結(jié)構(gòu)
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202111660695.2 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(kāi)(公告)號(hào) | CN114335265A | 公開(kāi)(公告)日 | 2022-04-12 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN114335265A | 申請(qǐng)公布日 | 2022-04-12 |
分類(lèi)號(hào) | H01L33/00(2010.01)I;C30B25/18(2006.01)I;C30B29/40(2006.01)I;C30B29/42(2006.01)I;C30B29/44(2006.01)I;H01L33/06(2010.01)I;H01L33/12(2010.01)I;H01L33/30(2010.01)I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 張祥;蔡和勛;馬英杰;伏兵;許宗琦 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人 | 揚(yáng)州乾照光電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 耿苑 |
地址 | 225101江蘇省揚(yáng)州市下圩河路8號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本申請(qǐng)實(shí)施例公開(kāi)了一種近紅外LED外延結(jié)構(gòu)制作方法及外延結(jié)構(gòu),該制作方法包括:在襯底表面依次形成N型層、發(fā)光層、P型層、過(guò)渡層以及歐姆接觸層,歐姆接觸層為GaP層,P型層包括P型限制層和P型窗口層,P型窗口層為AlxGa1?xAs層;過(guò)渡層包括第一過(guò)渡層和第二過(guò)渡層,第一過(guò)渡層為Al組分含量沿背離襯底表面方向從x均勻減小為0的AlyGa1?yAs層;第二過(guò)渡層為P組分含量沿背離襯底表面方向從0均勻增加為1的GaAs1?zPz層,從而使得過(guò)渡層能夠穩(wěn)定實(shí)現(xiàn)P型窗口層到歐姆接觸層的晶格與帶隙的過(guò)渡,有助于提高近紅外LED的工作性能,并使得過(guò)渡層與P型窗口層以及歐姆接觸層實(shí)現(xiàn)良好的歐姆接觸。 |
