半導體器件、電路組件及集成電路
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN201710211604.4 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN107123640B | 公開(公告)日 | 2019-07-09 |
申請公布號 | CN107123640B | 申請公布日 | 2019-07-09 |
分類號 | H01L23/60(2006.01)I; H01L23/62(2006.01)I; H01L27/02(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 宇思洋 | 申請(專利權(quán))人 | 深圳市環(huán)宇鼎鑫科技有限公司 |
代理機構(gòu) | 深圳中一聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 | 代理人 | 深圳市環(huán)宇鼎鑫科技有限公司 |
地址 | 518000 廣東省深圳市福田區(qū)華強北路長盛大廈13層1322室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明涉及半導體器件、電路組件及集成電路。本發(fā)明提供了一種半導體器件,其包括:半導體襯底;位于半導體襯底中的第一導電類型的第一摻雜區(qū)和第二摻雜區(qū)以及第二導電類型的第三摻雜區(qū)和第四摻雜區(qū),其中第三摻雜區(qū)毗鄰第一摻雜區(qū)并且位于第一摻雜區(qū)下方,第四摻雜區(qū)毗鄰第二摻雜區(qū)并且位于第二摻雜區(qū)下方;隔離結(jié)構(gòu),其配置成將第一摻雜區(qū)和第三摻雜區(qū)與第二摻雜區(qū)和第四摻雜區(qū)隔離;以及第二導電類型的阱,其半導體襯底中布置在第二摻雜區(qū)和第四摻雜區(qū)下方并且毗鄰第二摻雜區(qū)和第四摻雜區(qū)。 |
