基于掩膜的分區(qū)預(yù)熱設(shè)備及其分區(qū)預(yù)熱方法

基本信息

申請(qǐng)?zhí)?/td> CN201810124817.8 申請(qǐng)日 -
公開(kāi)(公告)號(hào) CN108372659B 公開(kāi)(公告)日 2019-12-13
申請(qǐng)公布號(hào) CN108372659B 申請(qǐng)公布日 2019-12-13
分類號(hào) B29C64/153(2017.01); B29C64/371(2017.01); B29C64/295(2017.01); B29C64/393(2017.01); B33Y30/00(2015.01); B33Y50/02(2015.01) 分類 塑料的加工;一般處于塑性狀態(tài)物質(zhì)的加工;
發(fā)明人 趙繼宗; 趙峰; 趙元立; 葉迅; 胡濱; 胡立人; 金朝亮; 李元; 王志斌 申請(qǐng)(專利權(quán))人 西安康拓醫(yī)療技術(shù)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 北京冠和權(quán)律師事務(wù)所 代理人 西安康拓醫(yī)療技術(shù)有限公司;西安康拓醫(yī)療技術(shù)股份有限公司
地址 710065 陜西省西安市高新區(qū)草堂科技產(chǎn)業(yè)基地秦嶺大道西6號(hào)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明屬于快速制造設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于掩膜的分區(qū)預(yù)熱設(shè)備及其分區(qū)預(yù)熱方法。本發(fā)明通過(guò)設(shè)有全局加熱光源和局部預(yù)熱光源,成型缸設(shè)有的基板用于加熱底層粉末,在局部預(yù)熱光源和全局加熱光源之間設(shè)有掩膜板,在局部預(yù)熱區(qū)上涂鋪有待燒結(jié)粉料,局部預(yù)熱光源、掩膜板和全局加熱光源均與溫度控制器連接,溫度監(jiān)測(cè)器中溫控探頭和熱成像儀設(shè)置在工作腔室內(nèi),用于檢測(cè)粉面溫度。本發(fā)明通過(guò)降低成形缸總體的工作溫度和減小設(shè)備冷卻壓力的方法,增加選區(qū)激光燒結(jié)設(shè)備的工作穩(wěn)定性及連續(xù)工作時(shí)間,實(shí)現(xiàn)對(duì)高熔點(diǎn)粉末的快速燒結(jié)及粉末多次回收利用。