一種二維實(shí)時(shí)太赫茲近場(chǎng)成像方法及裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910527755.X | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN110440919B | 公開（公告）日 | 2021-07-09 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110440919B | 申請(qǐng)公布日 | 2021-07-09 |
| 分類號(hào) | G01J3/44;G01N21/3581;G01V8/10 | 分類 | 測(cè)量；測(cè)試; |
| 發(fā)明人 | 秦源;陳志文;李潤(rùn)澤;林雅益;黃巍 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 清遠(yuǎn)市天之衡量子科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 廣州容大知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 劉新年 |
| 地址 | 511500 廣東省清遠(yuǎn)市高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)創(chuàng)興大道18號(hào)天安智谷科技產(chǎn)業(yè)園產(chǎn)業(yè)大廈T0114層01號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開一種二維實(shí)時(shí)太赫茲近場(chǎng)成像方法及裝置，涉及光學(xué)成像技術(shù)領(lǐng)域，包括：產(chǎn)生多種激光和太赫茲場(chǎng)，利用所述多種激光與太赫茲場(chǎng)將原子從基態(tài)相干激發(fā)到里德堡態(tài)；將太赫茲場(chǎng)轉(zhuǎn)化為輻射出的熒光；通過(guò)EIT和AT分裂進(jìn)行場(chǎng)強(qiáng)校準(zhǔn)；通過(guò)所述熒光探測(cè)所述太赫茲場(chǎng)的空間分布，以實(shí)現(xiàn)太赫茲成像；從而實(shí)現(xiàn)了從一維到二維、從需要用探針掃描耗時(shí)較長(zhǎng)到實(shí)時(shí)成像，從較低分辨率到較高分辨率，實(shí)現(xiàn)了優(yōu)化太赫茲成像的目的，進(jìn)而為太赫茲成像研究提供新技術(shù)基礎(chǔ)。 |
