一種用于提高晶圓刻蝕均勻性的氣體擋板
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN202022402967.6 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN213026060U | 公開（公告）日 | 2021-04-20 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN213026060U | 申請(qǐng)公布日 | 2021-04-20 |
| 分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I;H01J37/02(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 李鑫;張鵬 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 上海稷以科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 200240上海市閔行區(qū)東川路555號(hào)戊樓4026室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型公開了一種用于提高晶圓刻蝕均勻性的氣體擋板，包括圓形板體，所述圓形板體上由中心向四周設(shè)為中心區(qū)域、實(shí)心區(qū)域和外圍區(qū)域，所述中心區(qū)域設(shè)有兩圈中部通孔，整體呈環(huán)形；所述外圍區(qū)域均勻分布有外圍通孔；所述實(shí)心區(qū)域位于中心區(qū)域和外圍區(qū)域之間；所述圓形板體邊沿設(shè)有固定孔。本實(shí)用新型與現(xiàn)有技術(shù)相比的優(yōu)點(diǎn)是：本實(shí)用新型很好地解決了射頻等離子刻蝕問題中，襯底中心區(qū)域與邊緣區(qū)域和樣品刻蝕均勻性存在差異的問題，提高了等離子體刻蝕的均勻性。?? |
