一種多層內(nèi)襯壁等離子體處理裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN202020568951.X | 申請日 | - |
| 公開（公告）號(hào) | CN212010900U | 公開（公告）日 | 2020-11-24 |
| 申請公布號(hào) | CN212010900U | 申請公布日 | 2020-11-24 |
| 分類號(hào) | H01J37/32(2006.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 彭帆;楊平 | 申請（專利權(quán)）人 | 上海稷以科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
| 地址 | 200240上海市閔行區(qū)東川路555號(hào)戊樓4026室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型技術(shù)方案公開了一種多層內(nèi)襯壁等離子體處理裝置，其特征在于，包括真空腔壁、安裝于所述真空腔壁內(nèi)側(cè)壁上的多層內(nèi)襯壁、固定于所述真空腔壁內(nèi)的腔室中的載物臺(tái)以及與所述載物臺(tái)連接且水平地將腔室隔離為等立體產(chǎn)生腔室和真空腔室的隔離板，所述真空腔壁的頂部和底部分別設(shè)置進(jìn)氣口和抽氣口，所述真空腔壁的底部安裝有用于更換多層內(nèi)襯壁的升降機(jī)構(gòu)，所述升降機(jī)構(gòu)連接至后臺(tái)控制器。本實(shí)用新型通過在真空腔壁內(nèi)設(shè)置可更換的多層內(nèi)襯壁，并通過升降機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)了在不破真空狀態(tài)下的層內(nèi)襯壁的更換，大幅度提高了等離子體處理裝置的設(shè)備利用率。?? |
