等離子化學(xué)氣相沉積裝置
基本信息
| 申請?zhí)?/td> | CN201711317453.7 | 申請日 | - |
| 公開（公告）號 | CN109913854B | 公開（公告）日 | 2021-05-07 |
| 申請公布號 | CN109913854B | 申請公布日 | 2021-05-07 |
| 分類號 | C23C16/513(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I | 分類 | - |
| 發(fā)明人 | 張志強(qiáng);彭帆;楊平 | 申請（專利權(quán)）人 | 上海稷以科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 上海立群專利代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 侯莉 |
| 地址 | 200241上海市閔行區(qū)東川路555號戊樓4026室 | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明涉及化學(xué)氣相沉積領(lǐng)域，公開了一種等離子化學(xué)氣相沉積裝置。本發(fā)明中，該等離子化學(xué)氣相沉積裝置，包括陽極、陰極及至少一個(gè)調(diào)節(jié)電路；所述陽極上連接有基底；通過調(diào)節(jié)所述調(diào)節(jié)電路的阻抗，能夠調(diào)節(jié)所述陽極的電壓，從而控制等離子對所述基底的轟擊能量，以便改善基底表面材料的特性，提高表面結(jié)合力。相對于傳統(tǒng)技術(shù)而言，本實(shí)施方式的裝置無需設(shè)置多個(gè)射頻電源，即可實(shí)現(xiàn)對離子轟擊能量的調(diào)節(jié)，提高產(chǎn)品性能，大大降低了設(shè)備的成本以及設(shè)備的復(fù)雜性。?? |
