用于磁控濺射工藝腔室的磁場(chǎng)分布均勻化裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201910883185.8 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN110911263B | 公開(kāi)（公告）日 | 2022-07-01 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN110911263B | 申請(qǐng)公布日 | 2022-07-01 |
| 分類(lèi)號(hào) | H01J37/34（2006.01）I;C23C14/35（2006.01）I;C23C14/54（2006.01）I | 分類(lèi) | 基本電氣元件; |
| 發(fā)明人 | 侯?lèi)偯?/td> | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人 | 北京信息科技大學(xué) |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京金恒聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所 | 代理人 | - |
| 地址 | 100192北京市海淀區(qū)清河小營(yíng)東路12號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本發(fā)明公開(kāi)了一種用于磁控濺射工藝腔室的磁場(chǎng)分布均勻化裝置。柔性四桿機(jī)構(gòu)連桿上一組磁鐵以不同運(yùn)動(dòng)軌跡相對(duì)于柔性四桿機(jī)構(gòu)機(jī)架做往復(fù)運(yùn)動(dòng)、并隨同連桿機(jī)構(gòu)做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)，從而形成非周期或者弱周期變化的非輻射性磁場(chǎng)分布。根據(jù)本發(fā)明的磁場(chǎng)分布均勻化裝置，可以使磁場(chǎng)分布呈非周期性或弱周期性、非輻射狀分布，從而可以提高磁場(chǎng)分布均勻性，進(jìn)而能夠提高靶材濺射均勻性和靶材的利用率。本發(fā)明利用柔性四桿機(jī)構(gòu)連桿曲線(xiàn)特性和凸輪機(jī)構(gòu)實(shí)現(xiàn)磁場(chǎng)分布均勻化，從而提高工藝腔室內(nèi)流場(chǎng)均勻性及濺射速率，提高流場(chǎng)的可控性。 |
