一種PECVD沉積腔支撐裝置

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201921969081.0 申請日 -
公開（公告）號 CN212247205U 公開（公告）日 2020-12-29
申請公布號 CN212247205U 申請公布日 2020-12-29
分類號 C23C16/50 分類 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學(xué)處理；金屬材料的擴(kuò)散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制〔2〕;
發(fā)明人 陳金元 申請（專利權(quán)）人 理想萬里暉真空裝備（泰興）有限公司
代理機(jī)構(gòu) 蘇州國卓知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 代理人 理想萬里暉真空裝備（泰興）有限公司
地址 225400 江蘇省泰州市泰興高新技術(shù)產(chǎn)業(yè)開發(fā)區(qū)環(huán)溪路北側(cè)
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型公開了一種PECVD沉積腔支撐裝置，包括：等離子體外殼；三通道氣體流量計(jì)外殼，所述三通道氣體流量計(jì)外殼設(shè)置在等離子體外殼的一端；真空泵外殼，所述真空泵外殼設(shè)置在三通道氣體流量計(jì)外殼的一端；管式爐外殼，所述管式爐外殼設(shè)置在三通道氣體流量計(jì)外殼的頂端；支撐塊，所述支撐塊的數(shù)量為十二個(gè)，每四個(gè)為一組，分別設(shè)置在所述等離子體外殼、三通道氣體流量計(jì)外殼和真空泵外殼的底端。該P(yáng)ECVD沉積腔支撐裝置，在工作前，將千斤頂支撐好，轉(zhuǎn)動搖把，通過轉(zhuǎn)動機(jī)構(gòu)將轱轆收回到支撐塊的內(nèi)腔里，再使千斤頂歸位，利用支撐塊進(jìn)行支撐；需要搬運(yùn)時(shí)，利用千斤頂將設(shè)備支起，反向轉(zhuǎn)動搖把，將轱轆轉(zhuǎn)出支撐塊，即可搬運(yùn)，實(shí)用性強(qiáng)。