一種紫外光和紫外激光雙光源清洗設(shè)備

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201821225636.6 申請日 -
公開（公告）號 CN209156609U 公開（公告）日 2019-07-26
申請公布號 CN209156609U 申請公布日 2019-07-26
分類號 B08B7/00（2006.01）I 分類 清潔;
發(fā)明人 馬躍; 方曉東; 朱能偉; 梁勖; 游利兵 申請（專利權(quán)）人 中山普宏光電科技有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 510100 廣東省中山市火炬開發(fā)區(qū)會展東路16號數(shù)碼大廈1607號房
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及紫外光和紫外激光清洗技術(shù)領(lǐng)域，為一種紫外光和紫外激光雙光源清洗設(shè)備，包括紫外激光光源、反射鏡、光路整形系統(tǒng)、紫外燈光源、光學(xué)系統(tǒng)、待清洗物件和工作臺。本實(shí)用新型通過將紫外光和紫外激光兩種光清洗方式進(jìn)行有效結(jié)合，達(dá)到更為理想的光清洗效果，具有無研磨、非接觸、熱效應(yīng)小和適用于多種材質(zhì)和污染物的清洗等特點(diǎn)；紫外波長的光源可以有效清洗其他波長無法清洗的特殊材料雜質(zhì)、污染等；可以根據(jù)清洗對象的特征、通過雙光源置換調(diào)整清洗光斑的面積、能量等參數(shù)，實(shí)現(xiàn)高效、節(jié)能、高質(zhì)量的清洗。