坩堝組件和具有其的單晶生長裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111448447.1 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114134571A | 公開(公告)日 | 2022-03-04 |
申請公布號 | CN114134571A | 申請公布日 | 2022-03-04 |
分類號 | C30B29/36(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 燕靖;陳俊宏 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇集芯半導(dǎo)體硅材料研究院有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 趙麗婷 |
地址 | 221004江蘇省徐州市徐州經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)軟件園E1樓669室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種坩堝組件和具有其的單晶生長裝置,坩堝組件具有內(nèi)外間隔且連通的第一腔室和第二腔室,第二腔室位于第一腔室的內(nèi)側(cè),第二腔室用于盛放原料,第一腔室內(nèi)用于放置籽晶,坩堝組件具有與第一腔室連通的進氣口和出氣口,進氣口適于通入惰性氣體以帶動第二腔室內(nèi)的原料受熱產(chǎn)生的氣體進入第一腔室并在籽晶上沉積,出氣口適于將過剩氣體排出。根據(jù)本發(fā)明的坩堝組件,原料受熱更加均勻,升華效果更好,此外,當(dāng)碳化硅氣體從第二腔室進入第一腔室后,可以防止部分碳化硅氣體沉積在第一腔室的腔壁上,以使更多的碳化硅氣體附著到籽晶上,有助于節(jié)約原料。 |
