碳化硅晶體生長裝置
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202111448965.3 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN114108096A | 公開(公告)日 | 2022-03-01 |
申請公布號 | CN114108096A | 申請公布日 | 2022-03-01 |
分類號 | C30B29/36(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I | 分類 | 晶體生長〔3〕; |
發(fā)明人 | 燕靖;陳俊宏 | 申請(專利權(quán))人 | 江蘇集芯半導(dǎo)體硅材料研究院有限公司 |
代理機構(gòu) | 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 趙麗婷 |
地址 | 221004江蘇省徐州市徐州經(jīng)濟技術(shù)開發(fā)區(qū)軟件園E1樓669室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開了一種碳化硅晶體生長裝置,包括:坩堝組件,所述坩堝組件具有容納腔,所述容納腔適于放置原料和籽晶,所述坩堝組件具有進氣口、出氣口和進氣通道,所述進氣口和所述出氣口均與所述容納腔連通,所述進氣通道的進氣端位于所述容納腔外,所述進氣通道的出氣端埋入所述原料內(nèi),所述進氣通道適于通入含有氣態(tài)釩化合物的混合氣,所述進氣口適于通入含有還原性氣體的吹掃氣,所述原料受熱升華產(chǎn)生的碳化硅氣體適于在所述混合氣和所述吹掃氣的驅(qū)動下傳輸至所述籽晶表面沉積,所述出氣口用于排出過剩氣體。根據(jù)本發(fā)明的碳化硅晶體生長裝置,可以避免碳化硅晶體純度下降,并且在長晶過程中,易于控制晶體品質(zhì)。 |
