垂直LED芯片結(jié)構(gòu)及其制備方法
基本信息
申請?zhí)?/td> | CN202110691417.7 | 申請日 | - |
公開(公告)號 | CN113284990A | 公開(公告)日 | 2021-08-20 |
申請公布號 | CN113284990A | 申請公布日 | 2021-08-20 |
分類號 | H01L33/00(2010.01)I;H01L33/44(2010.01)I;H01L33/38(2010.01)I | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 郝茂盛;張楠;陳朋;袁根如;馬艷紅 | 申請(專利權(quán))人 | 上海芯元基半導(dǎo)體科技有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | 上海光華專利事務(wù)所(普通合伙) | 代理人 | 盧炳瓊 |
地址 | 201210上海市浦東新區(qū)中國(上海)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)祥科路111號3號樓507-2室 | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明提供一種垂直LED芯片結(jié)構(gòu)及其制備方法。制備方法包括步驟:提供生長襯底,形成外延層;于外延層中形成多個間隔分布的第一凹槽;于第一凹槽中形成第一N電極金屬層;形成N電極絕緣層;形成P電極金屬層以覆蓋P型GaN層及N電極絕緣層;將P電極金屬層與支撐襯底鍵合;去除生長襯底;于N型GaN層的表面形成表面絕緣層;于表面絕緣層中形成多個間隔分布的第二凹槽,第二凹槽顯露出N型GaN層,第一凹槽和第二凹槽上下對應(yīng);形成第二N電極金屬層,第二N電極金屬層填充第二凹槽,且各第二凹槽內(nèi)的第二N電極金屬層相互電連接。本發(fā)明可以有效減少芯片擊穿現(xiàn)象,減少絕緣層產(chǎn)生裂紋的現(xiàn)象,能顯著減少芯片漏電現(xiàn)象,提高芯片的穩(wěn)定性和可靠性。 |
