一種大尺寸晶體生長(zhǎng)裝置
基本信息
| 申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201921714149.0 | 申請(qǐng)日 | - |
| 公開(kāi)（公告）號(hào) | CN211227433U | 公開(kāi)（公告）日 | 2020-08-11 |
| 申請(qǐng)公布號(hào) | CN211227433U | 申請(qǐng)公布日 | 2020-08-11 |
| 分類(lèi)號(hào) | C30B29/36(2006.01)I;C30B23/00(2006.01)I | 分類(lèi) | - |
| 發(fā)明人 | 方帥;高超;劉圓圓;周敏;張虎;姜巖鵬;黃治成 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人 | 濟(jì)寧天岳新材料科技有限公司 |
| 代理機(jī)構(gòu) | 北京君慧知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） | 代理人 | 王寬 |
| 地址 | 272073山東省濟(jì)寧市高新區(qū)崇文大道6699號(hào) | ||
| 法律狀態(tài) | - | ||
摘要
| 摘要 | 本實(shí)用新型提供了一種大尺寸晶體生長(zhǎng)裝置，其由內(nèi)向外依次包括：晶體生長(zhǎng)室、第一石英管、感應(yīng)線圈、第二石英管，晶體生長(zhǎng)室用于生長(zhǎng)大尺寸晶體，感應(yīng)線圈呈螺旋狀纏繞設(shè)置于第一石英管外側(cè)，感應(yīng)線圈的匝間距為0?6mm，感應(yīng)線圈設(shè)置在旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)上，旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)控制感應(yīng)線圈轉(zhuǎn)動(dòng)。本實(shí)用新型通過(guò)優(yōu)化感應(yīng)線圈的設(shè)置，來(lái)提高感應(yīng)線圈產(chǎn)生磁場(chǎng)的均勻性，可以使晶體生長(zhǎng)室四周的溫度盡可能均勻，有效地減少晶體四周厚度不均勻的現(xiàn)象，有效地減少料面出現(xiàn)的某一方向上的塌陷，使晶體生長(zhǎng)室沿各個(gè)方向上被侵蝕的速率一樣，增加了這些耗材的使用次數(shù)和長(zhǎng)晶的穩(wěn)定性。?? |
