一種金屬釕的高標(biāo)定率EBSD制樣方法

基本信息

申請?zhí)?/td> CN202110868750.0 申請日 -
公開（公告）號 CN113418946A 公開（公告）日 2021-09-21
申請公布號 CN113418946A 申請公布日 2021-09-21
分類號 G01N23/203（2006.01）I;G01N23/20008（2018.01）I 分類 測量；測試;
發(fā)明人 王一晴;張仁耀;袁曉虹;甘建壯;陳國華;毛端;陳雯 申請（專利權(quán)）人 貴研鉑業(yè)股份有限公司
代理機(jī)構(gòu) 天津煜博知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所（普通合伙） 代理人 朱維
地址 650106云南省昆明市高新技術(shù)開發(fā)區(qū)科技路988號
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本發(fā)明涉及一種金屬釕的高標(biāo)定率EBSD制樣方法，屬于EBSD樣品制備技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明將真空燒結(jié)的金屬釕切割成金屬釕樣品；對金屬釕樣品的待EBSD分析表面或截面進(jìn)行機(jī)械拋光，再采用乙醇對機(jī)械拋光面進(jìn)行清洗；真空條件下，對金屬釕樣品的機(jī)械拋光面進(jìn)行能量遞減的氬離子拋光處理，取出樣品即得金屬釕的高標(biāo)定率EBSD樣品。本發(fā)明方法可以解決金屬釕耐蝕性極強(qiáng)不易電解拋光腐蝕的問題，又能有效地去除樣品表面因機(jī)械拋光所產(chǎn)生的表面應(yīng)力層，以及消除高能量離子轟擊樣品表面產(chǎn)生的非晶層，有利于EBSD測試時獲得更強(qiáng)的花樣和較高的衍射花樣標(biāo)定率，以便對金屬釕進(jìn)行微觀組織與織構(gòu)的研究；金屬釕樣品，標(biāo)定率可達(dá)99％以上。