一種流化床反應(yīng)器系統(tǒng)

基本信息

申請?zhí)?/td> CN201320695892.2 申請日 -
公開（公告）號 CN203803473U 公開（公告）日 2014-09-03
申請公布號 CN203803473U 申請公布日 2014-09-03
分類號 B01J8/24(2006.01)I;C01B33/027(2006.01)I;C01B33/03(2006.01)I 分類 一般的物理或化學(xué)的方法或裝置;
發(fā)明人 張祥;胡碧波;汪晨;徐振宇;代冰 申請（專利權(quán)）人 蘇州協(xié)鑫工業(yè)應(yīng)用研究院有限公司
代理機(jī)構(gòu) - 代理人 -
地址 215028 江蘇省蘇州市工業(yè)園區(qū)華池街圓融時(shí)代廣場國際金融中心19樓
法律狀態(tài) -

摘要

摘要 本實(shí)用新型涉及一種流化床反應(yīng)器系統(tǒng)，該反應(yīng)器包括反應(yīng)室和用于將氣體均勻地分布到反應(yīng)室中的氣體分布單元，所述反應(yīng)室包括至少一個(gè)反應(yīng)室壁，其特征在于，所述方法包括：將第一氣體經(jīng)由所述氣體分布單元的第一層進(jìn)氣口進(jìn)給并輸送至反應(yīng)室；將第二氣體經(jīng)由所述氣體分布單元的第二層進(jìn)氣口進(jìn)給并輸送至反應(yīng)室；將第三氣體經(jīng)由所述氣體分布單元的第三層進(jìn)氣口進(jìn)給并輸送至反應(yīng)室；及，使硅粒子在反應(yīng)室中與可熱分解的硅化合物接觸，以使硅沉積到硅粒子上并增加粒度。本實(shí)用新型在不影響流化床內(nèi)反應(yīng)空間的情況下能夠降低反應(yīng)器壁的硅沉積量，提高反應(yīng)效率，降低制造成本。