一種氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管
基本信息
申請(qǐng)?zhí)?/td> | CN201711207110.5 | 申請(qǐng)日 | - |
公開(公告)號(hào) | CN108039397A | 公開(公告)日 | 2018-05-15 |
申請(qǐng)公布號(hào) | CN108039397A | 申請(qǐng)公布日 | 2018-05-15 |
分類號(hào) | H01L33/32;H01L33/06 | 分類 | 基本電氣元件; |
發(fā)明人 | 鄭錦堅(jiān);李水清;鐘志白;周啟倫;林峰;吳雅萍;李志明;杜偉華;鄧和清;伍明躍;陳松巖;康俊勇 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 湖北三安光電有限公司 |
代理機(jī)構(gòu) | - | 代理人 | - |
地址 | 361009 福建省廈門市思明區(qū)呂嶺路1721-1725號(hào) | ||
法律狀態(tài) | - |
摘要
摘要 | 本發(fā)明公開一種氮化物半導(dǎo)體發(fā)光二極管,包括:N型氮化物半導(dǎo)體,V?pits,多量子阱,至少具有一V?pits開啟層和/或至少具有一V?pits調(diào)制層,以及P型氮化物半導(dǎo)體,其特征在于:所述V?pits開啟層和V?pits調(diào)制層具有不同的C碳含量,調(diào)節(jié)(10?11)面和(0001)面的速率匹配,通過控制C含量控制位錯(cuò)線開出V?pits并調(diào)控V?pits尺寸和密度;并控制InkGa1?kN/GaN的厚度比例和InzGa1?zN/GaN的厚度比例,調(diào)控V?pits的尺寸和密度。 |
